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第574章 阶段xing研发目标(2/2)

听到杨明所颁布的阶段攻关目标,众人的脸上纷纷了可能被外行指挥内行的疑虑。

所以从开始讨论这个话题,他们便对杨明行照顾,尽可能的采用一些但凡上过三天幼儿园就能听懂的语言行描述,生怕杨明听不懂这,就说现在!

毕竟自己是光刻方面的小白这,那是事实。

微米到纳米!

在德明集团内开始应用。

也就是说,就在当下,利用准分紫外激光制造纳米级芯片的技术,其实已经成熟。

据他的记忆,别看现在西方所曝光来的研发程,他们的光刻机依旧如张学东冯长宇所言,也还停留在微米阶段。

要光凭听说过几个什么纳米啊微米的名词就脑袋一拍就能成事,那就不是科学!

而所采用的手段,就是准本紫外波段光源!

但要说他提的这要求是不遵循科学的基本规律,那可就大错特错了。

毕竟曾经,他可也算是被尖端芯片被卡脖的受害者之一。

也是因此,看着众人那你个外行钱可以,但真的研发的话,你还是少外行指挥内行的表情,杨明微微一笑,然后侃侃而谈!

在这情况下,他不让众人过电汞灯辐紫外光这落后技术,而是直接研究当下最先的准分激光,更待何时?

但事实上,现在西方的研究,其实已经将光刻的度达到了纳米级!

毕竟不说据他们所知,杨明对光刻相关技术虽然有极诚,但在本上就是个小白。

不过此刻看大家兴致正,杨明便脆将将预设的阶段目标给抛了来……

科学这事,终究还得遵循基本规律。

毕竟电汞灯辐250紫外光,光刻芯片的特征尺寸依旧在微米级,但如果采用紫外波段准分激光的话,那制成的芯片特征尺寸,则就了纳米级!

事实上,如果不是知级这事,可以玩从一年级到三年级,但绝对没法从一年级直接到大学这,杨明怕是直接都得让众人直接从浸没式光刻技术开始研发,然后再直接转到euv技术路线的光刻机了……

虽然要最终上不同意给自己代的话,那么现在说再多怕也无济于事。

对于众人可能在心底的鄙视,杨明并不在意。

这,就是在场一众听到杨明提的阶段目标时心里的想法。

在场一众之所以不理解,并非是他们的底蕴不够,只是因为不了解而已!

如果用小孩学步来形容,那就是连爬都没学会呢,就得先让人跑——那能跑的起来么?

对于光刻机来说,这可是一个阶段的跨越。

只不过他的预设目标,可不是刚刚众人所讨论的电汞灯辐250紫外光,而是直接到了紫外波段准分激光!

也是因此,在被卡脖之时,他曾经的了解过整个光刻机的发展过程,所以对光刻机的发展史,他可真是了如指掌。

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连电汞灯辐250紫外光的相关研发都没完成,杨明却要求用紫外波段准分激光,直接将特征尺寸从微米挑纳米,那等于什么?

要不然的话,他哪里敢随手就将德明集团整个丢给冉辉,然后自己一个人跑到河岛一去就大半年?

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